3M NOVEC 7100
- 用于去除轻油和颗粒的溶剂/漂洗和无污点快速干燥
- 单溶剂、共溶剂、冲洗和干燥工艺
- 极低的 HSE 影响和极低的表面张力
重要通知：逐步淘汰 3M™ 产品
3M™ 于 2022 年 12 月宣布，到 2025 年底，所有 Novec™ 产品将被淘汰，不再提供。 不用担心，英业达有该产品的直接替代品，但我们建议您尽快与我们联系，以尽量减少供应中断。
如果您想了解更多有关 3M™ 产品淘汰的信息，请单击此关联.
我们的选择：
- PROMOSOLV DR3
- PROMOSOLV NEO A1 ->不含 GWP 和 PFAS
3M™ Novec™ 7100 工程流体甲氧基九氟丁烷 (C4F9OCH3) 是一种透明、无色和低气味的流体，旨在在许多应用中替代消耗臭氧层物质 (ODS) 和具有高全球变暖潜能值 (GWP) 的化合物。
Novec 7100 流体的高沸点和低表面张力使其非常适合作为纯（纯）共沸组分或共溶剂零件清洁剂用于蒸汽脱脂应用。 此外，其化学和热稳定性、不易燃性和低毒性使其可用于许多其他工业和特种溶剂应用。
来自 3M 的信 – Inventec EMEA 地区授权经销商
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好处
表现
- 使用中的热稳定性和化学稳定性（共沸配方）
- 极低的表面张力允许深度冲洗具有复杂几何形状的零件
- 漂洗和干燥时间短
成本
- 在设备中连续回收以实现较长的清洗寿命
- 可回收再利用
- 相对较高的沸点降低了溶剂拖曳的风险，因此限制了消耗
健康安全环境
- 极低毒性（参考 SDS）
- 无臭氧消耗潜能值 (ODP) 和低全球变暖潜能值 (GDP)
- 非易燃
工艺实例
最佳工艺取决于操作条件、设备、所需的清洁时间和污染物的性质等因素。 我们的团队随时准备为您提供建议。
分离助溶剂
混合助溶剂
应用
半导体晶片的干燥
Novec™ 7100 或 Novec™ 71IPA 用作半导体晶片的干燥剂，作为 IPA 的直接替代品。
Related products & services
Promosolv™ DR3
PROMOSOLV NEO A1
- Light oil & particles removal / rinsing & drying
- Vapor phase, co-solvent, flushing & drying process
- No GWP & PFAS free
- 3M Novec 7100 replacement
